四川
实验时间:2009年11月15日
实验名称:电霍尔效应及其应用 成绩:
学号:[1**********]
实验目的: 班级:应物08级2班的
姓名:刘 春
1、了解霍尔效应的基本原理; 2、学习霍尔效应测量磁场;
3、学习用“对称测量法”消除副效应的影响,测量式样的VHIS和VHIM曲线;
实验仪器:
TH-H型霍尔效应实验组合仪。
实验原理:
将一块半导体或导体材料,沿Z方向加以磁场B,沿X方向通以工作电流I,则在Y方向
产生出电动势VH,如图1所示,这现象称为霍尔效应。VH称为霍尔电压。
(a) (b)
图1 霍尔效应原理图
实验表明,在磁场不太强时,电位差VH与电流强度I和磁感应强度B成正比,与板的厚度d成反比,即
IB
VHRH
d (1) 或 VHKHIB (2)
式(1)中RH称为霍尔系数,式(2)中KH称为霍尔元件的灵敏度,单位为mv / (mA·T)。产生霍尔效应的原因是形成电流的作定向运动的带电粒子即载流子(N型半导体中的载流子是带负电荷的电子,P型半导体中的载流子是带正电荷的空穴)在磁场中所受到的洛仑兹力作用而产生的。
如图1(a)所示,一快长为l、宽为b、厚为d的N型单晶薄片,置于沿Z轴方向的磁场B
中,在X轴方向通以电流I,则其中的载流子——电子所受到的洛仑兹力为 F=qVE (3)
式中V为电子的漂移运动速度,其方向沿X轴的负方向。e为电子的电荷量。F指向Y轴的负方向。自由电子受力偏转的结果,向A侧面积聚,同时在B侧面上出现同数量的正电荷,在两侧面
间形成一个沿Y轴负方向上的横向电场E(即霍尔电场),使运动电子受到一个沿Y轴正方向的电场力F,A、B面之间的电位差为VH(即霍尔电压),则 F=eU/b (4) 将阻碍电荷的积聚,最后达稳定状态时有
V
即
eVBeH
b 得 VHVBb (5) 此时B端电位高于A端电位。
若N型单晶中的电子浓度为n,则流过样片横截面的电流 I=nebdV
V
I得
nebd (6) 将(6)式代入(5)式得 V1IBH nedIBRHdKHIB
(7)
式中
R11Hne称为霍尔系数,它表示材料产生霍尔效应的本领大小;KH
ned称为霍尔元件的灵敏度,一般地说,KH愈大愈好,以便获得较大的霍尔电压VH。因KH和载流子浓度n成反比,而
半导体的载流子浓度远比金属的载流子浓度小,所以采用半导体材料作霍尔元件灵敏度较高。又因KH和样品厚度d成反比,所以霍尔片都切得很薄,一般d≈0.2mm。
数据表格:
1、测绘VHIS实验曲线数据记录VH(V2V3V1V4)/4
2、测绘VHIM实验曲线数据记录
实验步骤:
1、正确连接电路,调节霍尔元件处于隙缝的中间位置;
2、测量霍尔电流Is与霍尔电压VH的关系。令励磁电流IM=0.600mA,调节霍尔电流Is=1.00mA,2.00mA,„,8.00mA(每隔1.0mA改变一次),分别改变励磁电流和霍尔电流的方向,记录对应的霍尔电压;
3、测量励磁电流IM与霍尔电压VH的关系。令霍尔电流Is=3.00mA,调节励磁电流IM=0.3A,0.4A,„,0.8. A(每隔0.1A改变一次),分别改变励磁电流和霍尔电流的方向,记录对应的霍尔电压; 4、测量在零磁场,Is=2.00mA时AC两端电压; 5、在Is=2.00mA,IM=0.600mA时VH随X的变化值;
数据处理:
1、VH-Is曲线;
2、VH-IM曲线;
3计算电导率;
Is=2.00mA, V=142.3mV
IslIl
Vs SVbd
所以:
21033103
142.31030.51034103
21.08 4、求RH、n、;
UHRIsBHRUHdB R0.620.5103dH
IsH0.654103VmBI20.3950.6/TA M
K
在这里可以通过对对VH-Is的散点分布进行拟合求其斜率来进行计算。 又因为: RH
1
nq
(q为电子电荷) n
1R13.61019
9.561021 Hq0.654101ne
21.08
ne
9.56101.610
19
1.37810321 5、作VH-X 图;
VH-X
表
VH-X 图
误差分析:
产生误差的主要原因有:不等位电势和热能流引起的不等位电势,载流子速度的平均化处理,
各种效应会产生的电势差。霍尔系数时可以通过实验曲线的拟合来求,更为精确。
四川
实验时间:2009年11月15日
实验名称:电霍尔效应及其应用 成绩:
学号:[1**********]
实验目的: 班级:应物08级2班的
姓名:刘 春
1、了解霍尔效应的基本原理; 2、学习霍尔效应测量磁场;
3、学习用“对称测量法”消除副效应的影响,测量式样的VHIS和VHIM曲线;
实验仪器:
TH-H型霍尔效应实验组合仪。
实验原理:
将一块半导体或导体材料,沿Z方向加以磁场B,沿X方向通以工作电流I,则在Y方向
产生出电动势VH,如图1所示,这现象称为霍尔效应。VH称为霍尔电压。
(a) (b)
图1 霍尔效应原理图
实验表明,在磁场不太强时,电位差VH与电流强度I和磁感应强度B成正比,与板的厚度d成反比,即
IB
VHRH
d (1) 或 VHKHIB (2)
式(1)中RH称为霍尔系数,式(2)中KH称为霍尔元件的灵敏度,单位为mv / (mA·T)。产生霍尔效应的原因是形成电流的作定向运动的带电粒子即载流子(N型半导体中的载流子是带负电荷的电子,P型半导体中的载流子是带正电荷的空穴)在磁场中所受到的洛仑兹力作用而产生的。
如图1(a)所示,一快长为l、宽为b、厚为d的N型单晶薄片,置于沿Z轴方向的磁场B
中,在X轴方向通以电流I,则其中的载流子——电子所受到的洛仑兹力为 F=qVE (3)
式中V为电子的漂移运动速度,其方向沿X轴的负方向。e为电子的电荷量。F指向Y轴的负方向。自由电子受力偏转的结果,向A侧面积聚,同时在B侧面上出现同数量的正电荷,在两侧面
间形成一个沿Y轴负方向上的横向电场E(即霍尔电场),使运动电子受到一个沿Y轴正方向的电场力F,A、B面之间的电位差为VH(即霍尔电压),则 F=eU/b (4) 将阻碍电荷的积聚,最后达稳定状态时有
V
即
eVBeH
b 得 VHVBb (5) 此时B端电位高于A端电位。
若N型单晶中的电子浓度为n,则流过样片横截面的电流 I=nebdV
V
I得
nebd (6) 将(6)式代入(5)式得 V1IBH nedIBRHdKHIB
(7)
式中
R11Hne称为霍尔系数,它表示材料产生霍尔效应的本领大小;KH
ned称为霍尔元件的灵敏度,一般地说,KH愈大愈好,以便获得较大的霍尔电压VH。因KH和载流子浓度n成反比,而
半导体的载流子浓度远比金属的载流子浓度小,所以采用半导体材料作霍尔元件灵敏度较高。又因KH和样品厚度d成反比,所以霍尔片都切得很薄,一般d≈0.2mm。
数据表格:
1、测绘VHIS实验曲线数据记录VH(V2V3V1V4)/4
2、测绘VHIM实验曲线数据记录
实验步骤:
1、正确连接电路,调节霍尔元件处于隙缝的中间位置;
2、测量霍尔电流Is与霍尔电压VH的关系。令励磁电流IM=0.600mA,调节霍尔电流Is=1.00mA,2.00mA,„,8.00mA(每隔1.0mA改变一次),分别改变励磁电流和霍尔电流的方向,记录对应的霍尔电压;
3、测量励磁电流IM与霍尔电压VH的关系。令霍尔电流Is=3.00mA,调节励磁电流IM=0.3A,0.4A,„,0.8. A(每隔0.1A改变一次),分别改变励磁电流和霍尔电流的方向,记录对应的霍尔电压; 4、测量在零磁场,Is=2.00mA时AC两端电压; 5、在Is=2.00mA,IM=0.600mA时VH随X的变化值;
数据处理:
1、VH-Is曲线;
2、VH-IM曲线;
3计算电导率;
Is=2.00mA, V=142.3mV
IslIl
Vs SVbd
所以:
21033103
142.31030.51034103
21.08 4、求RH、n、;
UHRIsBHRUHdB R0.620.5103dH
IsH0.654103VmBI20.3950.6/TA M
K
在这里可以通过对对VH-Is的散点分布进行拟合求其斜率来进行计算。 又因为: RH
1
nq
(q为电子电荷) n
1R13.61019
9.561021 Hq0.654101ne
21.08
ne
9.56101.610
19
1.37810321 5、作VH-X 图;
VH-X
表
VH-X 图
误差分析:
产生误差的主要原因有:不等位电势和热能流引起的不等位电势,载流子速度的平均化处理,
各种效应会产生的电势差。霍尔系数时可以通过实验曲线的拟合来求,更为精确。